Porte de vanne fente-Wuxi Hitron semi-conducteur Co., Ltd.

790-067213-004c

Processus: ETCH
Utilisation pour: LAM KIYO2300
0040-84390 62SP00255-7

Processus: ETCH
Utilisation pour: LAM2300
790-021383-001

Processus: ETCH
Utilisation pour: Lam2300 + moyen 4 trous 19mm d'épaisseur
22-133800-00

Processus: ETCH
Utilisation pour : NOVELLUS
Téléphone 3M12-012910-11

Processus: ETCH
Utilisation pour: TEL-Triase
TVA201727 07512-UE24

Processus: ETCH
Utilisation pour: PRODUCER LOAD LOCK
TVA624821 Série07512

Processus: ETCH
* 3M12-012910-11

Processus : TEL
Utilisation pour: TEL-Triase
Porte de vanne inoxydable/ALS-50506

Processus : TEL
Utilisation pour: TEL-Triase
3M10-203064-11

Processus : TEL
Utilisation pour: TEL-Triase
MB3M80-003061-11

Processus : TEL
Utilisation pour: TEL-Triase
100776444

Procédé: ULVAC